GIC粉末中添加含氟的HY制剂，随配合比例加大，其固化体释放氟量也增加。ASPA与富士TypeI、TypeⅡ相比粉末中含氟量较高，但与富士TypeⅠ、TypeⅡ相比氟释放量没有显著差异，提示其基质中可能是含氟量相同的。ASPA粉末中部分氟是很难溶的CaF2或者是被其质玻璃封闭着的，这是与调和液反应粉末氟量少的原因。由此推测粉末中含氟量尽管相同，但结合状态不同时，也会产生氟释放量的差异。比较其累积氟释放量，尽管初期氟释放量是相同的但是经时氟释放量有差异，可能是各材料固化体内部氟向表面扩散率不同。由于粉与液反应必不同引起粉末中氟游离子到基质量不同，所以粉末粒度及粉液比例影响其固化体氟的释放。 （四）溶出介质的GIC固化体释放氟量的影响
有关GIC固化体释放氟的研究大多是在蒸馏水中测定的，其优点是测定简单，蒸馏水中没有其它的离子的影响，但是蒸馏水不同于口腔环境，临床应用是暴露于人口腔内，口腔内唾液的成分，分泌量、PH、离子强度，食物及口腔细菌等因素对其都有影响，由此众多学者展开对GIC固化体的蒸馏水和人工唾液中释放氟的比较研究[13，14]。川岛正等应用蒸馏水和PH为7及PH为4的含有Ca2+、PO3-4且具有一定的粘度的人工唾液，观察发现GIC释放氟量在PH为4时最大，其次是蒸馏水，再次是PH为7的人工唾液；但其固化体氟释放速度在PH为4的人工唾液中是同程度的，在PH为7的人工唾液中稍慢些[15]。说明溶出介质PH对GIC氟释放量的极大影响，低PH有利于其释放氟。真田一男等应用PH为6.18的缓冲制成的人工唾液与蒸馏水比较，发现该人工唾液中GIC释放氟量是蒸馏水的4-5倍。而Mallakh报道，在人工唾液中氟释放量低于蒸馏水。这可能是各研究所用材料差异，加之人工唾液成分，PH、离子强度等不同，使结果不尽相同。
（五）GIC固化体的崩解与其释放氟的关系
小出武等为明确水门汀崩解与其释放氟的相关性，研究固化体放置时间对水门汀的影响，使用2种普通化学固化GIC和1种光固化GIC固化体浸入蒸馏水中，测定氟及水门汀固化体中铝、硅等主要成分，同时应用电子探针分析浸水后GIC表层元素的变化，探讨GIC表层崩解与释放量的关系。浸水后普通化学固化释放氟量随着固化体放置时间延长氟释放量减低、铝、硅也有同样的倾向，说明氟释放伴随着GIC固化体的崩解。光固化GIC与普通化学固化GIC相比，释放各元素量受放置时间的影响并不显著，扫描电镜观察化学固化GIC固化体放置5、10min，GIC表面崩解明显，放置60min时表面崩解减弱，仅限于表层，光固化GIC表层几乎没有崩解。GIC添加氟化物后其固化体释放氟能力增强，但是崩解率加大[16]，因此GIC固化体崩解率与其释放氟量有一定的联系。
（六）GIC固化体再吸收氟与再释放氟
GIC固化体经含氟液处理后，其释放氟量显著升高，即GIC固化体具有再吸收氟的能力，并且将所吸收的氟再释放出去。从化学结构解释为GIC固化体氟与其基质是弱健结合，因水解而解离出来之后，遗留的键位若遇到高浓度氟离子时，为达到溶度积平衡，则随时会与外界供应的氟，又形成键结合关系，待遇到适合的环境，又可缓慢释放，此现象被称为GIC固化体中的成分，但玻璃离子固化作用完成后，氟离子仅以离子键与组成的基质结合，氟离子解离后不会影响其固化体强度，而且若GIC固化体
表层解离后，再遇到高浓度氟时，马上又以离子键将氟吸收于基质内，有浓度差时再释放出来[19，20]。扫描电镜观察GIC固化体浸入介质一定时间后，其表层发现微孔状结构，即是形态学上的证明[21]。 四、强化氟水门汀
为增强牙科水门汀释放氟的能力，赋予其预防龋病的作用，将氟化物添加于其中，制成强化氟水门汀。山贺等将含有氟的HY制剂添加于GIC粉末中，发现随配合HY制剂量加大，其固化时间延长，抗压强度减低，配合一比例时GIC固化体崩解率急剧加大；强化氟水门汀固化体都能够释放氟，第1天释放氟速度最快，之后减慢，但能长期释放氟，在氟化物添加比例加大，其固化体崩解率急剧增加的同时，氟释放量也增加，桥本弘一等将氟化铟按5%的重量比添加于GIC粉末中，发现对其抗压强度影响甚少，配合氟化铟后其固化体释放氟量明显加大，但也同时增加固化体的崩解率、被膜厚度和延长固化时间，GIC调和液聚丙烯酸是弱酸，氟与聚丙烯酸相互拮抗，延迟固化反应，同时随着配合氟化物比例增加，使原粉液比例变小，也使固化体时间延长。将氟化铟添加于GIC调和液中，虽使GIC固化体机械性能减低，但是其释放氟能力也大幅度的降低[23]。添加的氟化物本身的溶解性也影响着水门汀固化体释放氟，添加难溶性氟化物其释放
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